Loading...

Подробно о применении чистых помещений

Основные области применения чистых помещений и требуемые классы чистоты.

Область применения Класс чистого помещения по ГОСТ ИСО 14644-1
3 4 5 6 7 8
Промышленность
Микроэлектроника
+ + + Вспомогательные зоны
Приборостроение, вычислительная техника + + + +
Оптика и лазеры + + + +
Космическая промышленность + + + +
Точная механика, гидравлика и пневматика +
Прецизионные подшипники +
Автомобильная промышленность + +
Парфюмерия и косметика +
Здравоохранение
Производство лекарственных средств:
- стерильных + + +
- нестерильных + +
Производство изделий медицинского назначения + + +
Больницы:
- операционные + + +
- палаты интенсивной терапии + +
- другие помещения + +
Пищевая промышленность + + +
3-й класс чистого помещения +
4-й класс чистого помещения +
5-й класс чистого помещения +
6-й класс чистого помещения Вспомога­тельные зоны
7-й класс чистого помещения Вспомога­тельные зоны
8-й класс чистого помещения Вспомога­тельные зоны
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения +
6-й класс чистого помещения +
7-й класс чистого помещения +
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения +
6-й класс чистого помещения +
7-й класс чистого помещения +
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения +
6-й класс чистого помещения +
7-й класс чистого помещения +
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения
6-й класс чистого помещения
7-й класс чистого помещения
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения
6-й класс чистого помещения
7-й класс чистого помещения
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения
6-й класс чистого помещения
7-й класс чистого помещения +
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения
6-й класс чистого помещения
7-й класс чистого помещения
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения +
6-й класс чистого помещения
7-й класс чистого помещения +
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения
6-й класс чистого помещения
7-й класс чистого помещения +
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения +
6-й класс чистого помещения
7-й класс чистого помещения +
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения +
6-й класс чистого помещения +
7-й класс чистого помещения +
8-й класс чистого помещения
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения +
6-й класс чистого помещения
7-й класс чистого помещения
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения
6-й класс чистого помещения
7-й класс чистого помещения +
8-й класс чистого помещения +
3-й класс чистого помещения
4-й класс чистого помещения
5-й класс чистого помещения +
6-й класс чистого помещения
7-й класс чистого помещения +
8-й класс чистого помещения +

Применение чистых помещений в микроэлектронике

Самые строгие требования к чистоте воздуха производственных помещений предьявляются в электронной промышленности. Чем дальше идет прогресс, тем меньше становятся топологические размеры элементов микросхем, и если размер загрязняющей частицы, осевшей на кристалл микросхемы, превысит 0,1- 0,2 доли минимального топологического размера - это может привести к браку микросхемы. Наиболее опасными загрязняющими частицами в этом случае являются частицы металлов, ионы, бактерии.

Производство полупроводниковых элементов осуществляется множеством этапов, каждый из которых требует беспрецендентной чистоты воздуха в рабочей зоне. Производство разделено на участки, на каждом из которых сырье проходит один из этапов обработки, и каждый участок представляет из себя чистое помещение с технологическим оборудованием.

Микросхемы изготавливаются на пластинах из полупроводниковых материалов, и наиболее чувствительными к чистоте воздуха являются операции с открытыми пластинами (литография, напыление, травление и пр.). Для микросхем с топологическим размером 1 мкм эти операции выполняются в чистых помещениях классов 4 ИСО - 5 ИСО. При меньших топологических размерах нужны чистые зоны классов 3 ИСО - и выше.

Связь параметров микросхемы и требуемого класса чистоты:

Год 1987 1993 1998 2000 2006 2012
Информационная емкость (СБИС ДОЗУ), мегабит (М), гигабит (Г) 1-4 М 16-64 М 256 М 1 Г 16 Г 64 Г
Минимальный топологический размер, мкм 0,8 – 1,0 0,35 – 0,6 0,25 0,15 0,10 0,05
Требуемый класс чистоты помещений 4 3 - 4 2 1 < 1 < 1

На современных заводах большинство участков производства полупроводников выполнены с использованием безлюдной технологии, т.е. осуществляется полная изоляция процесса от персонала и окружающей среды. Это достигается при помощи технологии SMIF (англ. Standart Mechanical Interface) - СМИФ (стандартный механический интерфейс) и ее модификаций FOUP и FOSB. В контейнер загружаются полупроводниковые пластины, после чего роботизированная система проводит непрерывную и полную цепь производственных процессов в технологических средах с одинаковыми показателями чистоты.

Обозначение классов чистоты в микроэлектронике согласно ГОСТ Р 50766-95 и их соотнесение с ГОСТ ИСО 14644-1